声悬浮抛光磨粒微流场研究

• 作者: 文东辉 林云 欧长劲 王正伟
• 来源期刊: 机电工程
• 学科: 工学
• 关键词: 声悬浮 流体抛光 磨粒流 PIV 微流动
• 年，卷（期）: 2013,（3）
• 所属期刊栏目: 机械、仪表技术
• 页码范围: 281-283,287
• 页数: 4页
• 分类号: TG664|TH162+.1
• 字数: 2286字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-4551.2013.03.007

摘要

为了解决纳米试样超光滑表面的制备问题,将能提供稳定声压场的声悬浮抛光技术应用到流体抛光中,开展了声压场和磨粒流场之间关系的分析.利用Matlab/PDE工具箱对抛光装置内部声压仿真的方法,对比不同反射端对抛光槽声压场的影响,优化了适合抛光的反射端形状尺寸和发射端与反射端之间的距离.利用PIV测试分析了磨粒流场与声压场的相关性,建立了声压场和磨粒流场之间的关系.试验结果表明,磨粒的运动方向与声压等势线大致相同,而且磨粒的最大速度与声压大小成正比.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	欧长劲	浙江工业大学机械工程学院	41	259	9.0	12.0
2	文东辉	浙江工业大学机械工程学院	58	714	12.0	25.0
3	王正伟	浙江工业大学机械工程学院	3	9	2.0	3.0
4	林云	浙江工业大学机械工程学院	1	2	1.0	1.0