阵列碳纳米管薄膜厚度调控研究

• 作者: 付志兵 唐永建 杨曦 王朝阳 马康夫
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 阵列碳纳米管 厚度 生长速度
• 年，卷（期）: 2013,（15）
• 所属期刊栏目: 研究·开发
• 页码范围: 2162-2165,2169
• 页数: 5页
• 分类号: TQ177
• 字数: 2740字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2013.15.007

摘要

采用化学气相沉积法制备了阵列碳纳米管薄膜,对薄膜生长厚度进行了系统研究.利用扫描电子显微镜(SEM)、拉曼光谱(Raman)对样品形貌以及结构进行了表征.结果发现,在相同的生长时间和一定的催化剂浓度范围内,阵列碳纳米管的薄膜厚度随催化剂浓度提高而增加；在生长时间相同时,阵列碳纳米管薄膜厚度随载气流速的增加而降低,且下降趋势近似为线性；随着生长时间的增长,阵列碳纳米管薄膜的厚度也随之增加,且在前60min生长速度最快达到24μm/min,60min之后生长速度减缓.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	唐永建	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	281	2334	24.0	31.0
2	王朝阳	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	96	655	14.0	19.0
3	付志兵	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	53	352	10.0	15.0
4	马康夫	西南科技大学材料科学与工程学院	4	9	2.0	3.0
6	杨曦	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	10	60	5.0	7.0