Cu2O薄膜的电化学沉积和生长机理研究

• 作者: 付乌有 杨海滨 汪长安 田传进 谢志鹏 赵文燕
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: Cu2O薄膜 电化学沉积 生长机理
• 年，卷（期）: 2013,（3）
• 页码范围: 452-455
• 页数: 4页
• 分类号: O484
• 字数: 2217字
• 语种: 中文

摘要

采用酸性醋酸铜体系,在透明导电玻璃(ITO)上恒电位沉积Cu2O薄膜,研究阴极还原Cu2O的电化学行为,利用X射线衍射(XRD)和场发射扫描电子显微镜(SEM)分析了Cu2O薄膜的微观结构和表面形貌,通过控制电沉积时间,研究Cu2O薄膜的表面形貌变化规律,讨论了Cu2O的生长机理.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨海滨	吉林大学超硬材料国家重点实验室	51	376	9.0	16.0
2	汪长安	景德镇陶瓷学院材料科学与工程学院	102	944	16.0	24.0
4	谢志鹏	景德镇陶瓷学院材料科学与工程学院	182	1898	22.0	36.0
10	赵文燕	景德镇陶瓷学院材料科学与工程学院	2	13	2.0	2.0
14	田传进	景德镇陶瓷学院材料科学与工程学院	7	25	3.0	5.0