分散剂对亚微米氮化硅粉体分散性能的影响

• 作者: 梁博 韩凤兰
• 来源期刊: 佛山陶瓷
• 关键词: 分散剂 亚微米 氮化硅 沉降行为
• 年，卷（期）: 2013,（12）
• 所属期刊栏目: 研究与探讨
• 页码范围: 24-27
• 页数: 4页
• 语种: 中文

摘要

本文利用研磨机将氮化硅(Si3N4)粉体研磨至亚微米级,并分析分散剂对Si3N4颗粒粒度的影响.从四甲基氢氧化铵(TMAH)、六偏磷酸钠(SHMP)和Darvan-c这三种分散剂对亚微米Si3N4分散性能的曲线图中可以看出,TMAH、SHMP和Darvan-c都有很强的抑制沉淀的作用,对亚微米Si3N4的分散效果较好.SHMP的加入量在1％时出现最佳值,随着加入量的逐渐增加,亚微米Si3N4的分散效果也逐渐变差.比较这三种分散剂,0.4％的Darvan-c对亚微米Si3N4的分散效果优于1％的SHMP和0.8％的TMAH对Si3N4的分散效果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	梁博	北方民族大学材料科学与工程学院	7	25	3.0	4.0
2	韩凤兰	北方民族大学材料科学与工程学院	34	98	7.0	8.0