白钨矿晶体常见暴露面的表面能及表面形貌

• 作者: 刘晓文 孙伟 胡岳华 高志勇
• 来源期刊: 中国有色金属学报（英文版）
• 关键词: 白钨矿 表面能 解理 接触角 润湿性
• 年，卷（期）: 2013,（7）
• 页码范围: 2147-2152
• 页数: 6页
• 字数: 602字
• 语种: 英文
• DOI: 10.1016/S1003-6326(13)62710-7

摘要

采用密度泛函理论 DFT 计算白钨矿晶体5个晶面的表面能，预测白钨矿晶体常见的暴露面。预测分析表明，{112}和{001}解理面及{112}晶面是白钨矿晶体的3个主要暴露面，与文献报道的及XRD单晶衍射实验结果一致。较{001}面方向，沿{112}面层间更容易产生解理，可能与这两个晶面方向的层间距差异有关。采用AFM研究3个常见暴露面的表面形貌。研究表明，{112}解理面最光滑，粗糙度最小；在{001}解理面上高度约10 nm的台阶依次排列。采用接触角测量的方法研究3个暴露面的润湿性，并计算其表面能。计算所得的表面能数据与DFT计算值大小顺序一致。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡岳华	中南大学资源加工与生物工程学院	253	4227	35.0	46.0
2	孙伟	中南大学资源加工与生物工程学院	191	1635	20.0	28.0
3	刘晓文	中南大学资源加工与生物工程学院	26	277	9.0	16.0
4	高志勇	中南大学资源加工与生物工程学院	16	133	6.0	11.0