等离子体射频功率对微晶硅薄膜微结构及其特性影响

• 作者: 周炳卿 张丽丽 张林睿 李海泉
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 物理学
• 关键词: 微晶硅薄膜 化学气相沉积 微结构
• 年，卷（期）: 2013,（3）
• 页码范围: 418-422
• 页数: 5页
• 分类号: O484
• 字数: 2325字
• 语种: 中文

摘要

采用射频等离子增强化学气相沉积(RF-PECVD)技术在低温、高沉积压力的条件下制备微晶硅薄膜材料.在优化其它沉积参数的条件下,研究等离子功率密度对微晶硅薄膜材料微结构的影响.通过X射线衍射谱,拉曼光谱,红外吸收谱以及SEM来表征了微晶硅薄膜材料的微结构.结果显示:随着射频功率的增加,微晶硅薄膜的晶化率提高,晶粒尺度减小,薄膜呈小晶粒生长,薄膜中氢含量减少,微结构因子增加,薄膜生长表现出不均匀性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周炳卿	内蒙古师范大学物理与电子信息学院功能材料物理与化学自治区重点实验室	45	134	6.0	8.0
2	李海泉	内蒙古师范大学物理与电子信息学院功能材料物理与化学自治区重点实验室	9	21	3.0	4.0
3	张丽丽	内蒙古师范大学物理与电子信息学院功能材料物理与化学自治区重点实验室	11	27	3.0	4.0
4	张林睿	内蒙古师范大学物理与电子信息学院功能材料物理与化学自治区重点实验室	16	48	4.0	5.0