惯性约束聚变靶中硅支撑冷却臂的制备

• 作者: 吴卫东 周民杰 唐永建 张继成 李佳 杨苗 罗跃川 马志波
• 来源期刊: 强激光与粒子束
• 学科: 工学
• 关键词: 惯性约束聚变靶 硅支撑冷却臂 反应离子深刻蚀
• 年，卷（期）: 2013,（12）
• 所属期刊栏目: 制靶与材料
• 页码范围: 3251-3254
• 页数: 4页
• 分类号: TQ177
• 字数: 2528字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/HPLPB20132512.3251

摘要

论述了基于反应离子深刻蚀技术加工惯性约束聚变(ICF)靶的硅支撑冷却臂.利用扫描电子显微镜、白光干涉仪和视觉显微系统等对所制备的硅支撑冷却臂的形貌、侧壁陡直度和卡爪径向形变量等参数进行了表征分析.分析结果表明,硅支撑冷却臂的侧壁陡直度大于88°,卡爪径向形变量大于20 μm,符合靶的设计要求.