40Cr冷滚打成形中位错密度变化研究

• 作者: 崔凤奎 李玉玺 燕根鹏 王晓强
• 来源期刊: 中国机械工程
• 学科: 工学
• 关键词: 冷滚打 位错密度 微观变化模型 XRD实验
• 年，卷（期）: 2013,（16）
• 所属期刊栏目: 材料工程
• 页码范围: 2248-2252,2256
• 页数: 6页
• 分类号: TG115.22
• 字数: 3432字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1004-132X.2013.16.022

摘要

为揭示40Cr在高速冷滚打中的成形机理,将40Cr宏观应力变化和位错密度变化机理相结合,得到了40Cr位错密度变化曲线;基于位错密度变化的微观组织演变模型,建立了40Cr位错密度变化模型,并验证了该模型的正确性;利用XRD实验得到40Cr在不同变形条件下的XRD图谱,结合Dunn公式求得40Cr在不同变形条件下各个晶面及晶面整体位错密度变化.通过模型验证和试验分析,进一步从微观角度解释了40Cr在冷滚打成形过程中的变化规律.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	崔凤奎		130	920	16.0	24.0
2	王晓强		42	292	8.0	16.0
3	李玉玺		14	129	8.0	11.0
4	燕根鹏		2	32	2.0	2.0