硼掺杂四面体非晶碳薄膜的光学特性研究

• 作者: 严帅 张化宇 李厚训 桂全宏 汪桂根 韩杰才 骆琳
• 来源期刊: 化工新型材料
• 关键词: 薄膜 硼掺杂四面体非晶碳膜 椭圆偏振光谱法 光学特性
• 年，卷（期）: 2013,（5）
• 所属期刊栏目: 科学研究
• 页码范围: 109-112
• 页数: 4页
• 字数: 3227字
• 语种: 中文

摘要

采用过滤阴极真空电弧技术制备了不同硼含量的掺杂四面体非晶碳薄膜(ta-C:B).使用椭偏仪和紫外-可见光分度计测试了薄膜的折射率、消光系数、透过率和反射率.结果表明,硼含量小于2.13％时,硼含量增加,薄膜折射率缓慢增大；消光系数基本保持不变.当硼含量继续增加到3.51％和6.04％时,折射率分别迅速增加至2.65和2.71,相应的消光系数增大至0.092和0.154;而薄膜的光学带隙从2.29eV缓慢减小至1.97eV,后又迅速降至1.27eV.同时ta-C:B膜的透过率逐渐减小,反射率逐渐增大,表明硼的掺入降低了薄膜的透光性能.ta-C:B膜光学性能的变化,除了与sp3杂化碳的含量有关外,还取决于薄膜中sp2杂化碳的空间分布特点.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	韩杰才	哈尔滨工业大学深圳研究生院	298	4663	35.0	52.0
5	严帅	哈尔滨工业大学深圳研究生院	6	24	2.0	4.0
6	张化宇	哈尔滨工业大学深圳研究生院	15	87	5.0	9.0
7	汪桂根	哈尔滨工业大学深圳研究生院	11	119	6.0	10.0
8	桂全宏		2	8	1.0	2.0
9	骆琳	哈尔滨工业大学深圳研究生院	1	0	0.0	0.0
10	李厚训	哈尔滨工业大学深圳研究生院	1	0	0.0	0.0