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基于离子束抛光的KDP晶体表面嵌入铁粉清洗研究
基于离子束抛光的KDP晶体表面嵌入铁粉清洗研究
作者:
关朝亮
冯殊瑞
周林
戴一帆
袁征
解旭辉
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
KDP晶体
磁流变抛光
离子束抛光
铁粉去除
摘要:
磁流变抛光技术是实现KDP晶体超精密加工的新方法,但磁流变液中的铁粉容易嵌入质软的KDP晶体表面.本文提出了利用基于低能离子溅射原理的离子束抛光技术去除KDP表面嵌入的铁粉.利用红外拉曼光谱和白光干涉仪分别分析了低能离子束抛光前后KDP晶体表面物质结构变化和表面粗糙度的变化;结果显示,低能离子束溅射不改变KDP晶体表面的组成结构,并改善了KDP晶体表面质量,因此离子束抛光可用于KDP晶体的加工;利用飞行时间二次离子质谱分析技术分别对单点金刚石车削、磁流变抛光和低能离子束抛光后的KDP晶体表面进行元素分析,结果显示低能离子束抛光可有效去除磁流变抛光在KDP晶体表面嵌入的铁粉.
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装夹应力
KDP晶体离子束抛光温度场模拟与工艺参数优化
离子束加工(IBF)
温度场
KDP晶体
参数优化
离子束抛光去除函数计算与抛光实验
光学加工
离子束抛光
溅射效应
法拉第杯扫描
去除函数
内容分析
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相关文献总数
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文献信息
篇名
基于离子束抛光的KDP晶体表面嵌入铁粉清洗研究
来源期刊
人工晶体学报
学科
工学
关键词
KDP晶体
磁流变抛光
离子束抛光
铁粉去除
年,卷(期)
2013,(4)
所属期刊栏目
研究方向
页码范围
582-586,597
页数
6页
分类号
TH161
字数
3019字
语种
中文
DOI
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
戴一帆
国防科技大学机电工程与自动化学院
109
1657
23.0
33.0
2
关朝亮
国防科技大学机电工程与自动化学院
12
120
8.0
10.0
3
解旭辉
国防科技大学机电工程与自动化学院
44
582
14.0
22.0
4
周林
国防科技大学机电工程与自动化学院
32
408
12.0
19.0
5
袁征
国防科技大学机电工程与自动化学院
5
68
5.0
5.0
6
冯殊瑞
国防科技大学机电工程与自动化学院
1
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KDP晶体
磁流变抛光
离子束抛光
铁粉去除
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研究来源
研究分支
研究去脉
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期刊影响力
人工晶体学报
主办单位:
中材人工晶体研究院有限公司
出版周期:
月刊
ISSN:
1000-985X
CN:
11-2637/O7
开本:
16开
出版地:
北京朝阳区红松园1号中材人工晶体研究院,北京733信箱
邮发代号:
创刊时间:
1972
语种:
chi
出版文献量(篇)
7423
总下载数(次)
16
相关基金
国家自然科学基金
英文译名:
the National Natural Science Foundation of China
官方网址:
http://www.nsfc.gov.cn/
项目类型:
青年科学基金项目(面上项目)
学科类型:
数理科学
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