电化学腐蚀多晶硅衬底减反射效果研究

• 作者: 刁宏伟 周春兰 李兆辰 李海玲 王文静 赵雷
• 来源期刊: 太阳能
• 关键词: 电化学腐蚀 多晶硅 减反射
• 年，卷（期）: 2013,（2）
• 所属期刊栏目: 技术产品与工程
• 页码范围: 54-57
• 页数: 4页
• 字数: 1996字
• 语种: 中文

摘要

将多晶硅片置于HF、N,N-二甲基甲酰胺(DMF)、去离子水的混合溶液中,研究电流密度、腐蚀时间对多晶硅绒面形貌以及表面反射率的影响.实验结果表明,可在多晶硅上获得平均孔径为5 ～ 20μm、深为1～ 3μm的腐蚀坑,其加权反射率达到11.3％,较处理之前降低了60％.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	周春兰	中国科学院太阳能热利用及光伏系统重点实验室中国科学院电工研究所	19	245	8.0	15.0
2	赵雷	中国科学院太阳能热利用及光伏系统重点实验室中国科学院电工研究所	25	210	9.0	14.0
3	王文静	中国科学院太阳能热利用及光伏系统重点实验室中国科学院电工研究所	32	266	8.0	16.0
4	李海玲	中国科学院太阳能热利用及光伏系统重点实验室中国科学院电工研究所	12	163	6.0	12.0
5	刁宏伟	中国科学院太阳能热利用及光伏系统重点实验室中国科学院电工研究所	16	222	8.0	14.0
6	李兆辰	中国科学院太阳能热利用及光伏系统重点实验室中国科学院电工研究所	1	4	1.0	1.0