工艺条件对水热电化学沉积 HA／TiO2涂层的影响

• 作者: 刘平 刘新宽 徐敏 李伟 陆晓琴 马凤仓
• 来源期刊: 金属热处理
• 学科: 工学
• 关键词: 钛合金 微弧氧化 水热电化学沉积 HA/TiO2 涂层 羟基磷灰石( HA)
• 年，卷（期）: 2013,（12）
• 页码范围: 44-48
• 页数: 5页
• 分类号: TG174.41
• 语种: 中文

摘要

采用微弧氧化法在钛合金表面制备出含有钙磷元素的TiO2氧化膜，利用水热电化学法制备了HA/TiO2涂层。借助SEM、XRD对涂层的表面形貌、物相组成进行了分析，研究了电流密度、温度和沉积时间对水热电化学沉积HA/TiO2涂层的影响。结果表明，含钙磷TiO2层有利于水热电化学方法生长HA，得到的HA晶体分布均匀、致密；随着温度的升高，HA晶体尺寸呈增大趋势；在一定范围内，HA晶体尺寸随沉积时间的延长呈增大趋势，若沉积时间过长，则HA晶体尺寸会出现异常粗大的现象；HA晶体尺寸随电流密度的升高变化不大。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘平	上海理工大学材料科学与工程学院	212	1078	16.0	22.0
2	李伟	上海理工大学材料科学与工程学院	131	544	12.0	19.0
3	马凤仓	上海理工大学材料科学与工程学院	109	494	12.0	18.0
4	刘新宽	上海理工大学材料科学与工程学院	137	518	12.0	18.0
5	徐敏	上海理工大学机械工程学院	21	50	5.0	6.0
6	陆晓琴	上海理工大学材料科学与工程学院	2	5	2.0	2.0