溅射功率对金属锰膜光学性质的影响

• 作者: 唐华杰 张晋敏 胡维前 谢泉 邵飞 金浩
• 来源期刊: 物理学报
• 关键词: 磁控溅射 金属锰膜 椭圆偏振光谱 德鲁得-洛伦兹色散模型
• 年，卷（期）: 2013,（24）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 247803-1-247803-6
• 页数: 1页
• 语种: 中文
• DOI: 10.7498/aps.62.247803

摘要

采用磁控溅射方法在Si(111)基片上制备金属锰膜，用椭圆偏振光谱在入射光子能量为2.0-4.0 eV范围内研究了溅射功率对薄膜光学性质的影响.利用德鲁得-洛伦兹色散模型对椭偏数据进行拟合，结果表明在测量范围内随溅射功率增加薄膜的折射率减小；消光系数随入射光子能量增加先增加后减小，在3.0 eV附近处出现极大值，并且极大值所处的位置随溅射功率增加而向低能方向移动，这主要与溅射沉积的锰薄膜的质量有关，且随溅射功率的增加薄膜的消光系数逐渐趋近于金属锰的数值.研究结果还表明溅射功率的增加减少了薄膜中的空隙，有利于薄膜的生长.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	胡维前	贵州大学电子信息学院贵州大学新型光电子材料与技术研究所	3	2	1.0	1.0
2	张晋敏	贵州大学电子信息学院贵州大学新型光电子材料与技术研究所	47	261	7.0	15.0
3	邵飞	贵州大学电子信息学院贵州大学新型光电子材料与技术研究所	3	2	1.0	1.0
4	金浩	贵州大学电子信息学院贵州大学新型光电子材料与技术研究所	4	11	2.0	3.0
5	唐华杰	贵州大学电子信息学院贵州大学新型光电子材料与技术研究所	3	9	2.0	3.0