溅射气压对硼掺杂ZnO薄膜光电特性的影响

• 作者: 付蕊 化麒麟 彭柳军 杨培志 杨雯 邓双
• 来源期刊: 人工晶体学报
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 ZnO∶B薄膜 溅射气压 透过率 电阻率 折射率
• 年，卷（期）: 2013,（5）
• 页码范围: 833-836
• 页数: 4页
• 分类号: TB34
• 字数: 2699字
• 语种: 中文

摘要

采用脉冲磁控溅射系统在玻璃衬底上制备了ZnO∶B薄膜,利用霍尔测试仪和紫外-可见光-近红外分光光度计及逐点无约束最优化法,研究了溅射气压(0.1 ～3 Pa)对ZnO薄膜的光学和电学特性的影响.结果表明:ZnO∶B薄膜在可见光区域内的平均透光率高于80％,近红外波段的透过率及薄膜的电阻率与溅射气压成正比；折射率n随溅射气压降低呈下降趋势,其值介于1.92 ～2.09之间；在较低的溅射气压下(PAr=0.1 Pa)获得的薄膜电阻率最小(3.7×10-3Ω·cm),且对应着小的光学带隙(Eg=3.463 eV).