离子束辅助及退火后处理对氦-镉激光器反射镜输出功率的影响

• 作者: 崔潇 张大伟 洪瑞金 陶春先
• 来源期刊: 中国激光
• 学科: 物理学
• 关键词: 薄膜 激光反射镜 输出功率 离子束辅助 退火
• 年，卷（期）: 2013,（11）
• 所属期刊栏目: 薄膜
• 页码范围: 181-185
• 页数: 5页
• 分类号: O433.4
• 语种: 中文
• DOI: 10.3788/CJL201340.1107001

摘要

为了制备高输出功率的441.6 nm氦-镉激光反射镜,研究了氧离子束辅助工艺及退火后处理对ZrO2单层膜及441.6 nm氦-镉激光器ZrO2/SiO2反射膜的影响.利用紫外-可见分光光度计测试了薄膜样品的反射光谱及吸收光谱;通过原子力显微镜测试了薄膜表面的粗糙度.测量及分析结果表明:氧离子束辅助沉积能够提高激光反射镜的反射率并形成致密的薄膜结构,但是由于引入的杂质缺陷提高了薄膜的吸收率从而使得激光的输出功率变小;退火处理消除了吸附于薄膜表面的杂质气体、水分,输出功率相比于退火前有了大幅度的提高.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张大伟		117	391	11.0	15.0
2	陶春先		21	38	3.0	5.0
3	洪瑞金		19	27	2.0	4.0
4	崔潇		1	0	0.0	0.0