超高浓度钛掺杂硅薄膜的制备及光电特性研究

• 作者: 刘丰珍 刘勇 周玉荣
• 来源期刊: 太阳能
• 关键词: 硅薄膜 超高浓度钛掺杂 热丝化学气相沉积
• 年，卷（期）: 2013,（1）
• 所属期刊栏目: 技术产品与工程
• 页码范围: 18-21
• 页数: 4页
• 字数: 2706字
• 语种: 中文

摘要

将磁控溅射和热丝化学气相沉积相结合,制备出超高浓度钛掺杂的氢化非晶硅薄膜.通过光发射谱(OES)分析了热丝加热前后直流溅射辉光特性,结果表明热丝加热与否对直流溅射过程的影响不大.俄歇电子能谱显示钛在薄膜中是均匀分布的,改变磁控溅射的功率可控制薄膜中钛的含量,薄膜在可见和红外光的吸收随钛浓度的增加而显著增强.掺钛非晶硅薄膜仍表现出半导体特性,电阻率随着温度的降低而提高,满足变程跳跃电导输运机制.采用激光熔融(PLM)对薄膜进行退火,薄膜晶化率达50％以上.晶化的掺钛硅薄膜仍保持较高的可见-红外波段的光吸收.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘勇	中国科学院研究生院	211	1777	22.0	33.0
2	刘丰珍	中国科学院研究生院	17	105	4.0	10.0
3	周玉荣	中国科学院研究生院	4	6	1.0	2.0