激光干涉光刻工艺开发与应用研究

• 作者: 于航 刘冉 陆冰睿 陈国平
• 来源期刊: 传感器与微系统
• 学科: 工学
• 关键词: 激光干涉光刻 微纳结构 光刻胶
• 年，卷（期）: 2013,（5）
• 所属期刊栏目: 研究与探讨
• 页码范围: 9-12
• 页数: 4页
• 分类号: TN205
• 字数: 3391字
• 语种: 中文

摘要

成功开发出以劳厄干涉为基础的激光干涉光刻系统与工艺,该工艺可在大面积范围内加工二维周期性图形,非常适合于生产光电子器件和微电子器件的周期性结构.通过实验研究了使用该工艺加工表面纳米结构的流程,对比了几种光刻胶在该工艺中的性能特点.该工艺不需要掩模、昂贵的短波长光源和成像透镜.初步实验结果表明:该工艺可以生产大面积亚微米周期的光栅、点阵以及锥形结构,为激光干涉光刻加工纳米结构的后续工作奠定了基础.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	于航	复旦大学微电子系专用集成电路与系统国家重点实验室	2	4	1.0	2.0
2	陆冰睿	复旦大学微电子系专用集成电路与系统国家重点实验室	2	9	2.0	2.0
3	陈国平	复旦大学微电子系专用集成电路与系统国家重点实验室	3	9	2.0	3.0
4	刘冉	复旦大学微电子系专用集成电路与系统国家重点实验室	5	16	3.0	4.0