国际标准ISO TR22335实验比对

• 作者: 姚文清
• 来源期刊: 实验技术与管理
• 学科: 化学
• 关键词: ISO TR22335 扫描俄歇电子能谱 溅射界面 氧化层厚度
• 年，卷（期）: 2013,（4）
• 所属期刊栏目: 实验室建设与管理
• 页码范围: 185-186,200
• 页数: 3页
• 分类号: O657.62
• 字数: 906字
• 语种: 中文

摘要

为了制定“技术报告”类国际标准ISO TR22335,2005年2月ISO/TC201技术委员会委托美国国家标准学会负责召集工作小组,小组成员由中国、匈牙利、日本、英国、美国、瑞士、韩国、菲律宾、俄罗斯等9个国家组成,中国等3个国家的6个实验室参加了实验比对,其中清华大学分析中心扫描俄歇电子能谱仪测得的标准偏差值最接近实际值,测得结果为:利用单孔栅网对97 nm的热氧化二氧化硅片进行界面溅射测量,测量的孔内(IA)标准偏差值为0.06 min,孔外(OA)标准偏差值为0.03min;氧化层厚度测量的标准偏差值为0.4 nm.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姚文清	清华大学分析中心	32	302	9.0	16.0