基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取       
摘要:
本文采用固相合成方法制备了Bi4(GexSi1-x)3O12 (BGSO)固溶体(x=0~0.4),研究了它的固溶特性和析晶行为.实验结果表明,不同组成混合料在900℃左右固相反应能生成BGSO纯相;XRD分析显示,在x=0~0.4区间内,Bi4Si3O12和Bi4Ge3O12可以完全互溶,其晶格常数随x的增加呈线性增长.采用坩埚下降法生长了x=0.15组成的BGSO混晶,获得了透明晶体,并测试了晶体的光学性能.
推荐文章
退火温度对Si基Bi4Ti3O12铁电薄膜微观结构影响研究
铁电薄膜
Bi4Ti3O12
微观结构
退火温度
退火温度对Bi4Ti3O12-Bi3TiNbO9复合薄膜铁电性能的影响
Bi4Ti3O12-Bi3TiNbO9(BIT-BNT)
薄膜
铁电性能
退火温度
Bi4Ti3O12掺杂BST陶瓷性能和结构的研究
电容器陶瓷
钛酸锶钡
Bi4Ti3O12掺杂
介电性能
Bi4Ti3O12铁电薄膜的制备及研究进展
Bi4Ti3O12铁电薄膜
研究进展
掺杂
内容分析
关键词云
关键词热度
相关文献总数  
(/次)
(/年)
文献信息
篇名 Bi4Si3O12-Bi4Ge3O12赝二元系统析晶行为及其晶体生长
来源期刊 人工晶体学报 学科 物理学
关键词 Bi4Si3O12 Bi4Ge3O12 析晶行为 坩埚下降法 晶体生长
年,卷(期) 2013,(1) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 13-16
页数 4页 分类号 O78
字数 2566字 语种 中文
DOI
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 张彦 上海应用技术学院材料科学与工程学院 14 24 3.0 3.0
2 徐家跃 上海应用技术学院材料科学与工程学院 87 198 6.0 9.0
3 申慧 上海应用技术学院材料科学与工程学院 24 34 3.0 4.0
4 江国健 上海应用技术学院材料科学与工程学院 25 76 5.0 7.0
5 杨波波 上海应用技术学院材料科学与工程学院 12 28 4.0 4.0
6 陆宝亮 上海应用技术学院材料科学与工程学院 4 5 1.0 2.0
传播情况
(/次)
(/年)
引文网络
引文网络
二级参考文献  (106)
共引文献  (46)
参考文献  (10)
节点文献
引证文献  (3)
同被引文献  (3)
二级引证文献  (2)
1971(2)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(2)
1972(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
1973(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
1983(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
1985(3)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(3)
1986(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
1988(2)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(2)
1990(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
1991(2)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(2)
1992(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
1993(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
1994(2)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(2)
1995(1)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(1)
1997(3)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(3)
1998(5)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(5)
1999(2)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(2)
2000(3)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(3)
2001(2)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(2)
2002(6)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(5)
2003(2)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(2)
2004(15)
  • 参考文献(2)
  • 二级参考文献(13)
2005(11)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(10)
2006(8)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(8)
2007(7)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(6)
2008(9)
  • 参考文献(0)
  • 二级参考文献(9)
2009(10)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(9)
2010(11)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(10)
2011(2)
  • 参考文献(2)
  • 二级参考文献(0)
2013(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
2013(1)
  • 参考文献(1)
  • 二级参考文献(0)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(0)
2014(1)
  • 引证文献(1)
  • 二级引证文献(0)
2017(3)
  • 引证文献(2)
  • 二级引证文献(1)
2019(1)
  • 引证文献(0)
  • 二级引证文献(1)
研究主题发展历程
节点文献
Bi4Si3O12
Bi4Ge3O12
析晶行为
坩埚下降法
晶体生长
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
人工晶体学报
月刊
1000-985X
11-2637/O7
16开
北京朝阳区红松园1号中材人工晶体研究院,北京733信箱
1972
chi
出版文献量(篇)
7423
总下载数(次)
16
总被引数(次)
38029
论文1v1指导