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电沉积Cu-In-Ga金属预制层的硒硫化研究
电沉积Cu-In-Ga金属预制层的硒硫化研究
作者:
何青
周志强
姚立勇
孙云
孙国忠
张超
敖建平
毕金莲
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
电化学沉积
Cu-In-Ga金属预制层
硒硫化处理
Cu(In,Ga)(S,Se)2薄膜
摘要:
以H2 S气体作为硫源、固态蒸发硒蒸气作为硒源对电沉积Cu-In-Ga金属预制层进行硒硫化处理.通过电沉积Cu-In-Ga金属预制层在不同衬底温度下硒化、硫化和硒硫化的对比实验,发现CuInS2相和CuIn(S,Se)2相优先生成,抑制了CuInSe2相的生成,促使InSe相薄膜向内部扩散,减弱了薄膜两相分离现象.采用先硒化后硒硫化处理工艺优化了Cu(In,Ga)(S,Se)2薄膜的制备工艺,在250?C预硒化得到了开路电压为570 mV的太阳电池,在更高的预硒化温度得到了较大短路电流的太阳电池,最终优化得到了效率达到10.4%的电池器件.
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内容分析
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内容分析
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文献信息
篇名
电沉积Cu-In-Ga金属预制层的硒硫化研究
来源期刊
物理学报
学科
关键词
电化学沉积
Cu-In-Ga金属预制层
硒硫化处理
Cu(In,Ga)(S,Se)2薄膜
年,卷(期)
2013,(23)
所属期刊栏目
物理学交叉学科及有关科学技术领域
研究方向
页码范围
238801-1-238801-10
页数
1页
分类号
字数
4537字
语种
中文
DOI
10.7498/aps.62.238801
五维指标
传播情况
被引次数趋势
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引文网络
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研究主题发展历程
节点文献
电化学沉积
Cu-In-Ga金属预制层
硒硫化处理
Cu(In,Ga)(S,Se)2薄膜
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
物理学报
主办单位:
中国物理学会
中国科学院物理研究所
出版周期:
半月刊
ISSN:
1000-3290
CN:
11-1958/O4
开本:
大16开
出版地:
北京603信箱
邮发代号:
2-425
创刊时间:
1933
语种:
chi
出版文献量(篇)
23474
总下载数(次)
35
总被引数(次)
174683
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