衬底温度对Ta2O5薄膜结构和光学性质的影响

• 作者: 李绪诚 杨利忠 石健 邓朝勇 马亚林
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 Ta2O5 光学薄膜 结晶 透过率
• 年，卷（期）: 2013,（23）
• 所属期刊栏目: 研究?开发
• 页码范围: 3405-3407
• 页数: 3页
• 分类号: TB332
• 字数: 2218字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2013.23.010

摘要

采用直流磁控溅射法在不同衬底温度下(27、150、300、450和750℃)制备 Ta2 O5薄膜。利用X射线衍射、扫描电子显微镜(SEM)和紫外-可见光分光光度计对薄膜的结构、表面形貌和光学性质进行分析研究。实验结果表明,当衬底温度为450℃时,薄膜开始结晶。低于450℃,薄膜为无定形态,光学透过率随着衬底温度的升高而升高,在可见光区域最大透过率为85％。薄膜结晶生成晶粒,会对通过的光束产生散射,降低透过率,光学性能下降。这些结果说明衬底温度和薄膜材料的结构、结晶转变温度及光学性质密切相关。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李绪诚	贵州大学理学院电子科学技术系	22	72	5.0	8.0
2	邓朝勇	贵州大学理学院电子科学技术系	62	194	9.0	12.0
3	马亚林	贵州大学理学院电子科学技术系	2	1	1.0	1.0
4	杨利忠	贵州大学理学院电子科学技术系	2	1	1.0	1.0
5	石健	贵州大学理学院电子科学技术系	1	1	1.0	1.0