衬底和退火时间对Al掺杂ZnO薄膜微结构和光学特性的影响

• 作者: 孟军霞 王超 马全新
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 物理学
• 关键词: 磁控溅射法 AZO薄膜 结构特性 光学特性
• 年，卷（期）: 2013,（z2）
• 所属期刊栏目: 光、电、磁功能材料
• 页码范围: 193-196
• 页数: 4页
• 分类号: O484.4+1|O484.5
• 字数: 2531字
• 语种: 中文

摘要

采用射频磁控溅射方法在玻璃和硅衬底上制备出Al掺杂ZnO(AZO)薄膜.利用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和光致荧光发光(PL)等系统研究了不同Al掺杂量对ZnO薄膜的结晶性能、表面形貌和光学特性等的影响.结果显示,硅衬底和玻璃衬底均出现了(100)和(002)衍射峰,玻璃的(002)衍射峰强于硅.同时随着退火时间的延长,(002)峰强度基本不变,(100)峰的强度逐渐增强,薄膜呈(100)取向生长,表明退火时间可能会引起晶体生长过程中择优取向的改变.退火1.5h样品可以得到最佳的(002)取向.随着退火时间的延长,样品的PL谱中各发光峰强度先增强后减弱随后又增强,且蓝光双峰强度大于绿光峰强度;位于443nm的蓝光发光峰发生了蓝移.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孟军霞	新疆工程学院基础部	6	30	2.0	5.0
2	马全新	哈尔滨工业大学化工学院	2	1	1.0	1.0
3	王超	新疆工程学院基础部	1	1	1.0	1.0