强磁场对不同厚度Fe80Ni20薄膜的微观结构及磁性能的影响

• 作者: 曹永泽 李国建 王强 王慧敏 赫冀成 马永会
• 来源期刊: 物理学报
• 关键词: 强磁场 气相沉积 微观结构 磁性能
• 年，卷（期）: 2013,（22）
• 所属期刊栏目: 凝聚物质:电子结构、电学、磁学和光学性质
• 页码范围: 227501-1-227501-7
• 页数: 1页
• 字数: 1767字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7498/aps.62.227501

摘要

有无6 T强磁场条件下利用分子束气相沉积方法制备了不同厚度的Fe80Ni20薄膜。研究发现，薄膜的面内矫顽力随厚度增加而降低且符合Neel理论；矩形比随厚度的增加先快速增大后缓慢降低；6 T磁场抑制了颗粒团聚及异常长大，并降低了薄膜表面的粗糙度，这使薄膜的矫顽力要小于无磁场作用的薄膜，矩形比大于无磁场作用的薄膜；而且薄膜在垂直于基片表面的6T磁场作用下由0T下的面内磁各向异性转变为磁各向同性。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	赫冀成	东北大学材料电磁过程研究教育部重点实验室	320	2811	26.0	36.0
2	王强	东北大学材料电磁过程研究教育部重点实验室	112	750	15.0	23.0
3	王慧敏	东北大学材料电磁过程研究教育部重点实验室	6	9	2.0	3.0
4	李国建	东北大学材料电磁过程研究教育部重点实验室	6	13	3.0	3.0
5	马永会	东北大学材料电磁过程研究教育部重点实验室	4	7	1.0	2.0
6	曹永泽	东北大学材料电磁过程研究教育部重点实验室	3	10	2.0	3.0