N2流量对中频非平衡磁控溅射TiAlN薄膜结构及性能的影响

• 作者: 何乃如 吉利 吴劲峰 李红轩 邱孟柯 黄小鹏
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 磁控溅射 TiAlN薄膜 N2流量 微观结构 硬度
• 年，卷（期）: 2013,（1）
• 所属期刊栏目: 研究·开发
• 页码范围: 32-35
• 页数: 4页
• 分类号: TG174.444|TB43
• 字数: 2739字
• 语种: 中文

摘要

采用非平衡磁控溅射技术在AISI202不锈钢片和P(111)单晶硅基底上制备了TiAlN薄膜,并利用场发射扫描电镜(FESEM)、三维轮廓仪、X射线衍射仪(XRD)、X射线电子能谱仪(XPS)、纳米压痕仪对薄膜的结构和性能进行了考查.结果表明,随着N2流量的升高,TiAlN薄膜的沉积速率降低,Al/Ti比率先升高后迅速降低；薄膜主要由TiN立方晶构成,且随N2流量的升高晶粒尺寸减小,柱状晶结构变疏松.在氮气流量为20mL/min时,薄膜具有最高的硬度及结合力.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	李红轩	中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室	23	269	11.0	16.0
2	邱孟柯	甘肃农业大学工学院	3	48	3.0	3.0
3	吉利	中国科学院兰州化学物理研究所固体润滑国家重点实验室	9	66	4.0	8.0
4	何乃如	甘肃农业大学工学院	2	16	2.0	2.0
5	吴劲峰	甘肃农业大学工学院	2	17	2.0	2.0
6	黄小鹏	甘肃农业大学工学院	1	12	1.0	1.0