超薄α-Ta(N)/TaN双层扩散阻挡层的微观结构与热稳定性

• 作者: 刘春海 叶松 崔学军 杨瑞嵩 王素娟 金永中
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 工学
• 关键词: 扩散阻挡层 超薄 热稳定性 微结构
• 年，卷（期）: 2013,（2）
• 所属期刊栏目: 研究·开发
• 页码范围: 202-205,211
• 页数: 5页
• 分类号: TN305.92
• 字数: 2036字
• 语种: 中文

摘要

提出利用真空室残余的低浓度N原子制备超薄α-Ta(N)/TaN双层扩散阻挡层的方法,有效地避免了异质元素的引入和高N含量导致的高电阻率.用四点探针(FPP)、X射线衍射(XRD)、场发射扫描电子显微镜(FESEM)进行薄膜电性能和微结构的表征,分析结果表明,利用低浓度氮化工艺,能调控超薄金属Ta膜的相结构,从而获得低阻α-Ta(N)/TaN双层Cu扩散阻挡层结构.高温退火的实验结果证明,此超薄结构具有高的热稳定性,失效温度达600℃.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	金永中	四川理工学院材料与化学工程学院材料腐蚀与防护四川省重点实验室	89	417	11.0	16.0
2	杨瑞嵩	四川理工学院材料与化学工程学院材料腐蚀与防护四川省重点实验室	22	39	3.0	5.0
3	刘春海	四川理工学院材料与化学工程学院材料腐蚀与防护四川省重点实验室	6	12	3.0	3.0
4	崔学军	四川理工学院材料与化学工程学院材料腐蚀与防护四川省重点实验室	22	67	4.0	7.0
5	王素娟	四川理工学院理学院	2	3	1.0	1.0
6	叶松	巢湖学院电子工程与电气自动化学院	26	40	3.0	4.0