采用准分子激光退火的室温沉积ITiO薄膜的性能研究

• 作者: 姚若河 沈奕
• 来源期刊: 功能材料
• 学科: 物理学
• 关键词: 掺Ti氧化铟 室温沉积 激光退火
• 年，卷（期）: 2013,（21）
• 所属期刊栏目: 工艺?技术
• 页码范围: 3146-3148
• 页数: 3页
• 分类号: O484.1
• 字数: 2059字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-9731.2013.21.021

摘要

采用室温磁控溅射的方法在玻璃衬底上沉积掺 Ti 氧化铟薄膜,并在真空中采用 XeCl 准分子激光进行退火,样品的光学、电学性能、相结构分别采用分光光度计、霍尔效应测试仪和 X 射线衍射仪进行测试。结果表明,功率为100~150mJ/cm2的准分子激光照射可以使薄膜由无定形态转变为结晶态,激活所掺杂的Ti原子,降低薄膜的电阻率；增大退火功率还可以进一步降低载流子浓度,提高薄膜的透过率。经150mJ/cm2准分子激光退火的掺Ti氧化铟薄膜,其电阻率为6.93×10-4Ω·cm,透过率达到了88.4%。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	姚若河	华南理工大学电子与信息学院	126	611	11.0	18.0
2	沈奕	华南理工大学电子与信息学院	13	101	6.0	9.0