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氘在碳钨共沉积层中的滞留行为研究
氘在碳钨共沉积层中的滞留行为研究
作者:
唐兴华
张文钊
施立群
李嘉庆
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
氘滞留
碳钨共沉积
射频磁控溅射
摘要:
运用射频磁控溅射方法,在氘氩混合气氛中制备了含氘碳钨共沉积薄膜.利用离子束分析方法[卢瑟福背散射(RBS)和弹性反冲(ERD)]对薄膜样品的厚度、成分、氘含量等进行了分析;利用拉曼光谱和扫描电子显微镜(SEM),分别分析了薄膜的结构和表面形态.离子束分析发现,氘原子更易被碳原子俘获位俘获,并且氘含量会随着沉积温度的升高而降低;其他镀膜条件固定的情况下,不同混合气体压强下薄膜样品中的氘浓度在5.0 Pa处有一个峰值;拉曼光谱分析显示,沉积温度从室温升高到725 K时,碳钨共沉积层中的类石墨化成分增加,同时,非晶化的程度也加剧;扫描电子显微镜图像表明,随着温度的升高薄膜表面被腐蚀的痕迹消失,但是由于应力的改变表面出现了多处的凸起.
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文献信息
篇名
氘在碳钨共沉积层中的滞留行为研究
来源期刊
物理学报
学科
关键词
氘滞留
碳钨共沉积
射频磁控溅射
年,卷(期)
2013,(19)
所属期刊栏目
气体、等离子体和放电物理
研究方向
页码范围
328-333
页数
6页
分类号
字数
语种
中文
DOI
10.7498/aps.62.195202
五维指标
作者信息
序号
姓名
单位
发文数
被引次数
H指数
G指数
1
唐兴华
复旦大学现代物理研究所应用离子束物理教育部重点实验室
5
3
1.0
1.0
5
李嘉庆
复旦大学现代物理研究所应用离子束物理教育部重点实验室
3
0
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张文钊
复旦大学现代物理研究所应用离子束物理教育部重点实验室
1
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二级引证文献(0)
研究主题发展历程
节点文献
氘滞留
碳钨共沉积
射频磁控溅射
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
物理学报
主办单位:
中国物理学会
中国科学院物理研究所
出版周期:
半月刊
ISSN:
1000-3290
CN:
11-1958/O4
开本:
大16开
出版地:
北京603信箱
邮发代号:
2-425
创刊时间:
1933
语种:
chi
出版文献量(篇)
23474
总下载数(次)
35
总被引数(次)
174683
相关基金
国家自然科学基金
英文译名:
the National Natural Science Foundation of China
官方网址:
http://www.nsfc.gov.cn/
项目类型:
青年科学基金项目(面上项目)
学科类型:
数理科学
期刊文献
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