预制层结构成分对溅射后硒化制备CIGS薄膜的影响

• 作者: 何代华 刘平 刘新宽 李伟 王卫兵 马凤仓
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 工学
• 关键词: CIGS 磁控溅射 CIG预制层
• 年，卷（期）: 2013,（4）
• 所属期刊栏目: 材料研究
• 页码范围: 93-96
• 页数: 4页
• 分类号: TM615
• 字数: 2655字
• 语种: 中文

摘要

采用磁控溅射法制备了不同结构成分的铜铟镓(CIG)预制层,对预制层进行硒化得到铜铟镓硒(CIGS)薄膜.采用XRD、SEM及EDS研究了CIG预制层的结构成分对CIGS薄膜的组织与结构的影响.结果表明,不同结构成分的CIG预制层经过硒化后得到的CIGS薄膜中各元素的成分比例差别不大；采用Ga浓度相对较高的CuGa靶制备的两层结构的CIG预制层经硒化后生成的CIGS薄膜,其(112)面择优取向比较明显,晶粒尺寸相对较大.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘平	上海理工大学材料科学与工程学院	212	1078	16.0	22.0
2	李伟	上海理工大学材料科学与工程学院	131	544	12.0	19.0
3	马凤仓	上海理工大学材料科学与工程学院	109	494	12.0	18.0
4	刘新宽	上海理工大学材料科学与工程学院	137	518	12.0	18.0
5	何代华	上海理工大学材料科学与工程学院	66	203	8.0	12.0
6	王卫兵	上海理工大学机械工程学院	4	18	3.0	4.0