纳米二氧化硅对体外培养HaCaT细胞凋亡的影响

• 作者: 何浩伟 刘庆成 刘建军 吴德生 庄志雄 杨淋清 陶功华 龚春梅
• 来源期刊: 安徽农业科学
• 学科: 农学
• 关键词: 纳米二氧化硅 细胞增殖 细胞凋亡 活性氧
• 年，卷（期）: 2013,（11）
• 所属期刊栏目: 动物科学·饲料科学
• 页码范围: 4842-4845,4876
• 页数: 5页
• 分类号: S185
• 字数: 4973字
• 语种: 中文

摘要

[目的]比较不同粒径(15、30、100 nm)纳米二氧化硅(nano-SiO2)和常规二氧化硅(Micro-SiO2)对人皮肤表皮细胞(HaCaT)生长的抑制作用及凋亡的影响.[方法]采用不同浓度(2.5、5、10 μg/ml)不同粒径(15、30、100 nm)的nano-SiO2和10 μg/ml的Micro-SiO2(1～5μm)染毒体外培养的HaCaT细胞24h,同时设溶剂对照组(nano-SiO2和Micro-SiO2的分散液染毒组).采用细胞计数试剂盒(CCK-8)法检测HaCaT细胞暴露于不同浓度、不同粒径的nano-SiO2后的细胞活力,用Annexinv-PI双染法和Hoechest33342染色法测定细胞凋亡情况；使用2’,7’-二乙酰二氯荧光素荧光探针检测细胞内活性活性氧(ROS)水平.[结果]不同粒径的nano-SiO2纳米对HaCaT细胞的半数抑制浓度分别为(19.4±1.3)、(27.7±1.5)、(35.9±1.6) μg/ml.当染毒浓度固定时,随着nano-SiO2粒径的减小,凋亡率逐渐增加.当粒径固定时,胞内ROS的水平也随着nano-SiO2浓度的增大而增高.相关分析表明,细胞存活率和凋亡率与胞内活性氧的水平的相关性分别为-0.952和0.898(P ＜0.01).[结论]nano-SiO2能抑制HaCaT细胞生长并可诱导其凋亡,这种现象的发生可能与胞内产生的活性氧水平有关.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	庄志雄		147	734	14.0	20.0
2	杨淋清		44	127	6.0	9.0
3	刘建军		130	729	13.0	21.0
4	吴德生		13	45	3.0	6.0
5	龚春梅		18	61	4.0	7.0
6	陶功华		8	25	3.0	4.0
7	何浩伟		3	8	2.0	2.0
8	刘庆成		5	19	3.0	4.0