氮化硅透明陶瓷光学薄膜的制备与特性分析

• 作者: 代吉祥 杨志 杨明红 程芸
• 来源期刊: 材料导报
• 学科: 物理学
• 关键词: 氮化硅薄膜 射频溅射 光学性能 FT-IR EPMA
• 年，卷（期）: 2013,（2）
• 所属期刊栏目: 材料研究
• 页码范围: 31-34
• 页数: 4页
• 分类号: O436
• 字数: 3468字
• 语种: 中文

摘要

采用射频磁控反应溅射法在不同工艺下制备微米级厚度的氮化硅薄膜,并利用椭圆偏振仪、分光光度计、X射线衍射仪、电子探针显微分析仪以及红外光谱仪对薄膜的光学性能、微观结构及化学成分进行了表征.测试结果表明,当N2和Ar的流量为1∶1时所制备样品为非晶态结构的高折射率富氮氮化硅薄膜；低温热处理对薄膜折射率有一定的改善作用；透过率随溅射气压的增加而升高、随功率的增大而降低；N-Si键的强度随溅射气压的升高而降低.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	代吉祥	武汉理工大学光纤传感技术国家工程实验室	8	31	2.0	5.0
2	杨明红	武汉理工大学光纤传感技术国家工程实验室	17	56	5.0	7.0
3	程芸	武汉理工大学光纤传感技术国家工程实验室	2	15	1.0	2.0
4	杨志	武汉理工大学光纤传感技术国家工程实验室	6	25	3.0	5.0