HfO2顶层多层介质膜脉宽压缩光栅的离子束刻蚀

• 作者: 付绍军 刘正坤 刘颖 徐向东 洪义麟 邱克强
• 来源期刊: 物理学报
• 关键词: 光栅 多层介质膜 离子束刻蚀
• 年，卷（期）: 2013,（23）
• 所属期刊栏目: 电磁学、光学、声学、传热学、经典力学和流体动力学
• 页码范围: 234202-1-234202-8
• 页数: 1页
• 字数: 6567字
• 语种: 中文
• DOI: 10.7498/aps.62.234202

摘要

多层介质膜光栅是高功率激光系统的关键光学元件。为了满足国内强激光系统的迫切需求，首先利用考夫曼型离子束刻蚀机开展了HfO2顶层多层介质膜脉宽压缩光栅的离子束刻蚀实验研究。采用纯Ar及Ar和CHF3混合气体作为工作气体进行离子束刻蚀实验，获得了优化的离子源工作参数。结果表明，与纯Ar离子束刻蚀相比， Ar和CHF3混合气体离子束刻蚀时的HfO2/光刻胶的选择比大。 HfO2的离子束刻蚀过程中再沉积效应明显，导致刻蚀光栅占宽比变大。根据刻蚀速率分布制作的掩模遮挡板可以提高刻蚀速率均匀性，及时清洗离子源和更换灯丝，可保证刻蚀工艺的重复性。利用上述技术已成功研制出多块最大尺寸为80 mm ×150 mm、线密度1480线/mm、平均衍射效率大于95%的HfO2顶层多层介质膜脉宽压缩光栅。实验结果与理论设计一致，为大口径多层介质膜脉宽压缩光栅的离子束刻蚀提供了有益参考。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	徐向东	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	74	701	15.0	21.0
2	洪义麟	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	56	478	13.0	19.0
3	付绍军	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	69	435	12.0	15.0
4	刘颖	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	158	3777	30.0	58.0
5	邱克强	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	25	135	6.0	10.0
6	刘正坤	中国科学技术大学国家同步辐射实验室	32	132	6.0	9.0