H2在Al?7团簇解离吸附的理论研究

• 作者: 李文杰 杨慧慧 陈宏善
• 来源期刊: 物理学报
• 关键词: Al?7 H2 解离吸附 从头计算
• 年，卷（期）: 2013,（5）
• 页码范围: 146-152
• 语种: 中文
• DOI: 10.7498/aps.62.053601

摘要

利用高精度从头计算方法研究了H2分子在Al?7阴离子团簇上的吸附及解离过程,确定了分子吸附及解离吸附的稳定结构,并分析了各结构的光电子能谱.计算表明H2在Al?7上为弱的物理吸附,吸附能约为0.02 eV;解离过程的能垒约为0.75 eV.对团簇及解离吸附结构的态密度与实验得到的光电子能谱的比较表明二者能够很好地符合,确定H2与激光烧蚀产生的团簇直接反应时能在Al?7上发生解离.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	陈宏善	西北师范大学物理与电子工程学院甘肃省原子分子物理与功能材料重点实验室	53	229	8.0	13.0
2	杨慧慧	西北师范大学物理与电子工程学院甘肃省原子分子物理与功能材料重点实验室	5	11	3.0	3.0
3	李文杰	西北师范大学物理与电子工程学院甘肃省原子分子物理与功能材料重点实验室	2	4	1.0	2.0