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摘要:
采用射频磁控溅射法在富氧环境下制备ZnO薄膜,继而结合N离子注入及热退火实现薄膜的N掺杂及p型转变,借助霍尔测试和拉曼光谱研究了N离子注入富氧ZnO薄膜的p型导电及拉曼特性.结果表明,在600?C温度下退火120 min可获得性能较优的p-ZnO:N薄膜,其空穴浓度约为2.527×1017 cm?3. N离子注入ZnO引入了三个附加拉曼振动模,分别位于274.2,506.7和640.4 cm?1.结合电学及拉曼光谱的分析发现,退火过程中施主缺陷与N受主之间的相互作用对p-ZnO的形成产生重要影响.
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文献信息
篇名 N离子注入富氧ZnO薄膜的p型导电及拉曼特性研究
来源期刊 物理学报 学科
关键词 富氧ZnO 离子注入 p型导电 拉曼光谱
年,卷(期) 2013,(3) 所属期刊栏目
研究方向 页码范围 382-386
页数 分类号
字数 语种 中文
DOI 10.7498/aps.62.037703
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物理学报
半月刊
1000-3290
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大16开
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1933
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