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摘要:
影响光学薄膜器件特性的众多因素中,膜层的折射率和光学厚度是两个最重要的因素.尤其对正在淀积的膜层的折射率精确测量极为困难,膜厚监控便成为了薄膜制备成败的关键.文章介绍了几种典型膜厚监控方法基本工作原理和最新进展.
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文献信息
篇名 光学膜厚监控技术
来源期刊 技术与市场 学科
关键词 光学薄膜 光学膜厚监控 精度
年,卷(期) 2013,(11) 所属期刊栏目 技术研发
研究方向 页码范围 7-8
页数 2页 分类号
字数 1881字 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1006-8554.2013.11.004
五维指标
作者信息
序号 姓名 单位 发文数 被引次数 H指数 G指数
1 华显立 河南工业职业技术学院光电工程系 18 52 2.0 7.0
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大16开
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62-125
1980
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