HBES玻璃制作菲涅尔透镜灰度掩模的研究

• 作者: 季振强 王丽 董连和 陈哲
• 来源期刊: 技术与市场
• 关键词: HEBS玻璃 灰阶掩模 电子束直写 菲涅尔透镜
• 年，卷（期）: 2013,（12）
• 所属期刊栏目: 技术研发
• 页码范围: 150
• 页数: 1页
• 字数: 1042字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1006-8554.2013.12.086

摘要

从HEBS玻璃能量作用机理和曝光量与透过率关系着手,研究利用电子束直写曝光的方法,在HEBS玻璃上制作8阶菲涅尔透镜变灰阶掩模,得到掩模最大透过率为44.8％,最小透过率为8.7％.利用该掩模制得菲涅尔透镜衍射效率高达91％,证实利用HEBS玻璃制作灰阶掩模的可行性及实用性.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	董连和	长春理工大学光电工程学院	45	151	7.0	11.0
2	陈哲	长春理工大学光电工程学院	12	45	3.0	6.0
3	王丽	长春理工大学光电工程学院	32	34	3.0	4.0
4	季振强	长春理工大学光电工程学院	2	7	1.0	2.0