磁控溅射镀膜技术的发展及应用

• 作者: 任风章 孙浩亮 马景灵
• 来源期刊: 中国科教创新导刊
• 学科: 教育
• 关键词: 磁控溅射 镀膜 辉光放电
• 年，卷（期）: 2013,（29）
• 所属期刊栏目: 电化教育研究
• 页码范围: 136,138
• 页数: 2页
• 分类号: G4
• 字数: 2057字
• 语种: 中文

摘要

近年来,随着新材料的开发,尤其是薄膜材料的发展和应用,带动磁控溅射沉积技术的飞速发展,在科学研究领域和工业生产中有着不可替代的重要作用.本文主要介绍了磁控溅射沉积技术的工艺过程及其发展情况,各种主要磁控溅射镀膜技术的特点,并介绍磁控溅射技术在各个领域的主要应用.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	马景灵	河南科技大学材料科学与工程学院	52	297	11.0	15.0
2	任风章	河南科技大学材料科学与工程学院	9	84	4.0	9.0
3	孙浩亮	河南科技大学材料科学与工程学院	12	74	4.0	8.0