PLD法制备透明ZnO薄膜的主要点缺陷研究

• 作者: 丁玲红 张伟风 赵志娟
• 来源期刊: 压电与声光
• 学科: 工学
• 关键词: 脉冲激光沉积(PLD) 点缺陷 ZnO薄膜 ZnO单晶 Zn
• 年，卷（期）: 2014,（2）
• 页码范围: 260-262,265
• 页数: 4页
• 分类号: TN36|TM23
• 字数: 2631字
• 语种: 中文

摘要

采用脉冲激光沉积(PLD)法在石英衬底上制备了ZnO薄膜.为研究ZnO薄膜内部主要点缺陷,我们用(002)ZnO单晶与ZnO薄膜作对比,并进行了霍尔测试、X线衍射(XRD)和光学透射谱等基本表征.霍尔测量得到的高的霍尔迁移率及XRD图表明,制备的ZnO薄膜结晶良好,具有沿c轴高度择优取向.同时,ZnO薄膜衍射峰相对于单晶向大角度方向发生了漂移.透射谱表明,ZnO薄膜在可见光区透过率为75％,吸收带边相对于单晶发生蓝移.各种表征手段证明PLD法制备的ZnO薄膜主要点缺陷为Zn填隙(Zni).

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张伟风	河南大学物理与电子学院河南省光伏材料重点实验室	66	248	8.0	10.0
2	丁玲红	河南大学物理与电子学院河南省光伏材料重点实验室	21	95	6.0	8.0
3	赵志娟	河南大学物理与电子学院河南省光伏材料重点实验室	1	0	0.0	0.0