紫外光照射对聚丙烯核孔膜蚀刻的影响

• 作者: 傅元勇 刘义保 周密 陈东风 鞠薇
• 来源期刊: 原子能科学技术
• 关键词: 聚丙烯膜 紫外光敏化 电导法 径迹蚀刻速率
• 年，卷（期）: 2014,（1）
• 所属期刊栏目: 技术及应用
• 页码范围: 189-192
• 页数: 4页
• 分类号: TL99
• 语种: 中文
• DOI: 10.7538/yzk.2014.48.01.0189

摘要

采用主峰波长为365 nm的紫外光灯对经32S离子和79Br离子辐照过的16μm厚的聚丙烯（PP）膜正反面分别敏化6、8、10、12 h。选取重铬酸钾和硫酸的混合溶液作为蚀刻液对样品膜进行蚀刻，采用电导法监测电流随蚀刻时间的变化，确定不同敏化时间下样品膜的导通时间。同种离子辐照后敏化时间越长，膜导通时间越短，径迹蚀刻速率也越快，且辐照离子的原子序数越大，该影响越明显。相同敏化时间（12 h）和蚀刻条件下，32 S离子辐照后膜的导通时间是79 Br离子辐照后的4.8倍。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	刘义保	东华理工大学研究生院	80	338	10.0	15.0
2	陈东风	中国原子能科学研究院核物理研究所	83	193	7.0	11.0
3	傅元勇	中国原子能科学研究院核物理研究所	11	5	1.0	1.0
4	鞠薇	中国原子能科学研究院核物理研究所	7	3	1.0	1.0
5	周密	东华理工大学研究生院	2	1	1.0	1.0