邻菲罗啉化学发光体系稳定性的研究

• 作者: 孙威 曾知音 程云辉 罗芳 陈盎弘
• 来源期刊: 中国食品学报
• 关键词: 邻菲啰啉 化学发光 羟自由基
• 年，卷（期）: 2014,（3）
• 所属期刊栏目: 研究报告
• 页码范围: 64-71
• 语种: 中文

摘要

邻菲罗啉化学发光法近年来较广泛用于羟自由基(.OH)产生与清除的测定,是体外检测抗氧化活性物质清除·OH能力的重要方法.因该体系的检测指标是发光强度,体系较为敏感,故重现性较差.单因素和正交试验结果表明:邻菲啰呤化学发光体系中各因素的浓度对体系的稳定性影响较大;正交最优方案为1.50 mmol/L邻菲罗啉,1.25 mmol/L CuSO4,0.25 mmol/L VC,pH 7.50的硼砂-硼酸缓冲液,25％ H2O2.此条件下,体系发光强,稳定性和重现性皆较好.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	程云辉	长沙理工大学化学与生物工程学院	45	479	13.0	21.0
2	曾知音	长沙理工大学化学与生物工程学院	4	62	3.0	4.0
3	罗芳	长沙理工大学化学与生物工程学院	1	1	1.0	1.0
4	孙威	长沙理工大学化学与生物工程学院	1	1	1.0	1.0
5	陈盎弘	长沙理工大学化学与生物工程学院	1	1	1.0	1.0