恒定气压下流量对溅射AlN薄膜结构性能的影响

• 作者: 徐阳 杜波 杨杰 石玉 马晋毅
• 来源期刊: 压电与声光
• 学科: 工学
• 关键词: 溅射 氮化铝(AlN)薄膜 通入气体流量 结构特性
• 年，卷（期）: 2014,（2）
• 页码范围: 217-220
• 页数: 4页
• 分类号: TQ174
• 字数: 3718字
• 语种: 中文

摘要

研究了恒定气压下、通入不同气体流量对射频磁控溅射原位沉积氮化铝(AlN)薄膜应力、结晶质量和表面形貌的影响.利用应力分析仪、X线衍射(XRD)、原子力显微镜(AFM)和台阶仪对AlN薄膜的结构特性进行了分析.结果表明,恒定气压下改变通入气体流量对薄膜应力、结晶质量、表面形貌及粗糙度和薄膜沉积速率均有影响.当通入气体流量为10 cm3/min时,AlN薄膜呈明显的压应力,结晶质量较差.增加通入气体流量降低了薄膜沉积速率和增加了表面粗糙度,但有利于减小薄膜的压应力和提高薄膜的结晶质量.本实验条件下得出的溅射AlN薄膜的最佳流量条件为50 cm3/min.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杨杰	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	9	31	3.0	5.0
2	石玉	电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室	79	346	9.0	14.0
3	马晋毅		25	52	3.0	5.0
4	徐阳		21	32	3.0	4.0
5	杜波		21	54	4.0	5.0