等离子喷涂技术在溅射靶材制备中的应用

• 作者: 林小辉 梁静
• 来源期刊: 中国钼业
• 学科: 工学
• 关键词: 等离子喷涂 溅射靶材 制备
• 年，卷（期）: 2014,（2）
• 所属期刊栏目: 金属加工
• 页码范围: 43-46
• 页数: 4页
• 分类号: TG146.4+12
• 字数: 5106字
• 语种: 中文
• DOI: 10.13384/j.cnki.cmi.1006-2602.2014.02.009

摘要

镀膜行业的快速发展对溅射靶材的大型化、利用率等提出了更高要求.但传统的靶材制备方法在靶材大型化方面存在很大局限.等离子喷涂技术可喷涂几乎所有的陶瓷、金属、金属化合物,在靶材制备领域有着巨大的应用潜力.本文重点介绍了目前溅射靶材主要制备方法及存在问题,并对等离子喷涂制备溅射靶材的特点及设备现状及发展方向进行了阐述.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	林小辉		28	75	5.0	6.0
2	梁静		30	98	6.0	7.0