原文服务方: 材料工程       
摘要:
利用射频磁控溅射技术在载玻片衬底上成功沉积了TiO2薄膜,采用离子注入技术对所制备的TiO2薄膜进行了Sn元素的注入掺杂.在可见光的照射下,以亚甲基蓝染料为降解污染物,考察了Sn注入前后TiO2薄膜的光催化活性.结果表明,Sn离子注入增强了TiO2薄膜在可见光下的光催化活性.利用基于密度泛函理论的第一性原理方法对Sn掺杂前后TiO2的能带结构进行了计算,发现Sn掺杂并未明显改变锐钛矿相TiO2的能带结构,但是却在TiO2的价带底附近引入了由Sn 5s轨道形成的掺杂能级.
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文献信息
篇名 Sn掺杂锐钛矿TiO2薄膜的光催化活性及其能带结构
来源期刊 材料工程 学科
关键词 TiO2薄膜 光催化 能带结构
年,卷(期) 2014,(1) 所属期刊栏目 测试与表征
研究方向 页码范围 70-74
页数 5页 分类号 TQ174
字数 语种 中文
DOI 10.3969/j.issn.1001-4381.2014.01.013
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TiO2薄膜
光催化
能带结构
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材料工程
月刊
1001-4381
11-1800/TB
大16开
北京81信箱-44分箱
1956-05-01
中文
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