二氧化硅光波导膜材料的制备工艺

• 作者: 丁纲筋 吴金东 肖湘杰 胡海鑫 黄舒
• 来源期刊: 光电子
• 学科: 物理学
• 关键词: 平面光波导 二氧化硅膜 等离子增强化学气相沉积 火焰水解沉积
• 年，卷（期）: gdz_2014,（3）
• 页码范围: 34-43
• 页数: 10页
• 分类号: O48

摘要

二氧化硅(SiO2)平面光波导器件在光通信和光传感的应用日益广泛,制备SiO2膜材料是平面光波导及其集成器件制作的基础。等离子增强化学气相沉积(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition, PECVD)和火焰水解沉积(Flame Hydrolysis Deposition, FHD)工艺是制备SiO2厚膜的典型方法, 本文分析总结了制备工艺参数对膜层性能的影响,说明PECVD + FHD混合工艺是SiO2型PLC器件最具竞争性的制作方法。