奥氏体等温淬火球铁PVD-TiN涂层的特性:球数和奥氏体等温淬火温度的影响

• 作者: Diego COLOMBO 乔林锁
• 来源期刊: 现代冶金
• 关键词: 奥氏体等温淬火球墨铸铁 物理蒸气沉积 TiN涂层 粘着性
• 年，卷（期）: 2014,（1）
• 页码范围: 44-50
• 页数: 7页
• 字数: 5458字
• 语种: 中文

摘要

研究了石墨球数为490-1 100个/mm2在280℃和360℃奥氏体等温淬火的ADI基体上沉积PVD-TiN涂层,在300℃用电弧离子喷涂工艺进行沉积,评价了基体显微组织对涂层特性的影响以及沉积过程对奥氏体显微组织产生变化的可能性,检测了试样中存在的相、涂层沉积方向、沉积膜的厚度、硬度、杨氏模量、表面形貌和涂层粘着性,检测了沉积前后奥氏体基体的金相特性和残余奥氏体数量.检测结果表明,PVD-TiN涂层(111)面的初始方向与表面平行,膜的厚度约2μm,基体特性影响努普硬度,其值在1700-2100HK0.015之间,显微硬度值接近25 GPa,杨氏模量有些分散(323～336 GPa).表面形貌取决于基体显微组织和表面制备方法及所用沉积工艺,按照Rockwell-C粘着试验,涂层的粘着强度级别为HF1-HF2,并且即不受不同基体之间硬度差异的影响也不受石墨球数变化的影响.涂镀后ADI的显微组织变化可以忽略,残余奥氏体的数量稍有减少.