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一种石墨烯热电器件的圆片级制备工艺
一种石墨烯热电器件的圆片级制备工艺
作者:
刘冠东
张扬熙
赵琦
郝一龙
高成臣
基本信息来源于合作网站,原文需代理用户跳转至来源网站获取
石墨烯
化学气相淀积(CVD)
圆片级
微加工技术
热电器件
摘要:
石墨烯器件的规模制备是石墨烯材料从实验室研究走向市场应用的关键技术.基于大面积化学气相淀积(CVD)石墨烯,结合微加工技术,对石墨烯圆片级制备工艺进行了初步研究.优化了光学光刻和反应离子刻蚀(RIE)等工艺参数,设计了一套适用于4英寸(1英寸=2.54 cm)硅衬底圆片级制备石墨烯器件的完整工艺流程,可以减少光刻次数,降低工艺成本.测试结果表明,单个圆片的器件成品率可达90.6%,圆片内器件具有较好的均一性,制备的石墨烯热电单元阵列在冷热端温差为5.2℃时,输出电压可达3.52 mV,高于已报道的同类石墨烯器件.
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浅谈石墨烯在电子器件中的应用
石墨烯
电子器件
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内容分析
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关键词热度
相关文献总数
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文献信息
篇名
一种石墨烯热电器件的圆片级制备工艺
来源期刊
微纳电子技术
学科
工学
关键词
石墨烯
化学气相淀积(CVD)
圆片级
微加工技术
热电器件
年,卷(期)
2014,(7)
所属期刊栏目
加工、测量与设备
研究方向
页码范围
458-464
页数
分类号
TN304.18|TN37
字数
语种
中文
DOI
10.13250/j.cnki.wndz.2014.07.009
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研究主题发展历程
节点文献
石墨烯
化学气相淀积(CVD)
圆片级
微加工技术
热电器件
研究起点
研究来源
研究分支
研究去脉
引文网络交叉学科
相关学者/机构
期刊影响力
微纳电子技术
主办单位:
中国电子科技集团公司第十三研究所
出版周期:
月刊
ISSN:
1671-4776
CN:
13-1314/TN
开本:
大16开
出版地:
石家庄市179信箱46分箱
邮发代号:
18-60
创刊时间:
1964
语种:
chi
出版文献量(篇)
3266
总下载数(次)
22
总被引数(次)
16974
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