射流抛光中的流场特性研究

• 作者: 张杨 张蓉竹 李秀龙 杨李茗 罗银川
• 来源期刊: 光学技术
• 学科: 工学
• 关键词: 冲击射流 流场特性 壁面压强
• 年，卷（期）: 2014,（4）
• 所属期刊栏目: 光学工艺
• 页码范围: 376-380
• 页数: 5页
• 分类号: TP60
• 字数: 5077字
• 语种: 中文

摘要

为了给出射流抛光系统的优化设计参数，从理论上分析了冲击射流流场的结构特点，建立了工件壁面上的速度、压强与冲击角度、射流出口速度以及冲击距离的数学关系。就不同参数对射流流场分布的影响进行了定量计算，结果表明，工件壁面上的压强和速度与出口压强和速度成线性正比关系。当冲击距离大于9．6d（d为射流喷口的直径）时，工件壁面压强和速度随冲击距离的增大而减小，冲击距离增加到15d时，壁面压强最大值减小到0．54p0（p0为射流出口处的压强）。工件壁面压强和速度随冲击角度的减小而减小，当入射角为90°、60°和45°时，分别得到壁面压强最大值ps＝0．95 p0，0．74p0，0．475p0，上游速度最大值um02＝0．96u0，0．8u0，0．67u0（u0为射流出口处的速度）。

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	张蓉竹	四川大学电子信息学院	107	573	10.0	20.0
2	杨李茗	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	9	145	6.0	9.0
3	张杨	四川大学电子信息学院	21	123	5.0	10.0
4	罗银川	中国工程物理研究院激光聚变研究中心	7	15	3.0	3.0
6	李秀龙	四川大学电子信息学院	4	14	3.0	3.0