电解铜箔无砷粗化处理工艺改进探讨

• 作者: 杜三明 赵原森
• 来源期刊: 河南冶金
• 关键词: 电解铜箔 As2O5 粗化 粗糙度 工艺改进
• 年，卷（期）: 2014,（2）
• 所属期刊栏目: 问题探讨
• 页码范围: 23-25
• 页数: 3页
• 字数: 3462字
• 语种: 中文

摘要

为减小现有电解铜箔粗化工艺中含砷添加剂的使用,通过调整18 μm和35 μm电解铜箔现有粗化工艺流程和表面处理工艺参数,分析了改进后工艺流程和表面处理工艺参数对粗化层表面性能和微观组织的影响.结果表明:当粗化液中Cu2浓度为5 g/L～ 30 g/L,H2SO4浓度为40 g/L～60g/L,温度在15℃～45℃,电流密度在1300 A/m2～ 2100 A/m2时,铜箔的抗剥离强度较工艺改进前的稍有增加,达到了电解铜箔的性能要求.微观形貌观察表明,采用新粗化处理工艺制备的电解铜箔表层晶粒与原工艺制备的电解铜箔的晶粒度相同,达到了预期的粗化效果.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	杜三明		96	840	17.0	25.0
2	赵原森		1	5	1.0	1.0