液体磁性磨具小孔光整加工材料去除机理及实验

• 作者: 周钦 孙桓五 张云飞 王娟
• 来源期刊: 纳米技术与精密工程
• 学科: 工学
• 关键词: 液体磁性磨具 小孔 光整加工 材料去除率 表面粗糙度
• 年，卷（期）: 2014,（2）
• 所属期刊栏目: 精密加工
• 页码范围: 140-146
• 分类号: TH117.1
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1672-6030.2014.02.010

摘要

针对小孔内壁光整加工技术的难题,本文提出一种新型精密研磨孔光整加工技术,以磁致相变理论为指导,从微观角度阐述了液体磁性磨具研磨孔光整加工的材料去除机理.采用“双刃圆半径”模型进行单个磨料颗粒切削模型研究,得出小孔光整加工的材料去除率数学表达式.通过实验验证了磨料粒度、入口压力、电流强度等因素对材料去除率以及表面粗糙度的影响,实验结果表明:在合适的范围内,增大磨料颗粒直径、入口压力以及电流强度有利于提高材料的去除率和表面质量.而当磨粒直径、入口压力以及电流强度选取过大时,虽然能获得较高的材料去除率,但是最终获得的表面粗糙度值并不理想.该研究为通孔零件内壁表面精密光整加工提供了有益参考.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	孙桓五	太原理工大学机械工程学院	66	208	7.0	10.0
2	王娟	太原理工大学机械工程学院	14	50	5.0	6.0
3	张云飞	太原理工大学机械工程学院	9	40	4.0	5.0
4	周钦	太原理工大学机械工程学院	5	26	3.0	5.0