电沉积钴纳米线阵列耐腐蚀性能研究

• 作者: 任建林 卢海霞 宋振兴 晋晓勇
• 来源期刊: 电镀与精饰
• 学科: 工学
• 关键词: 电沉积 钴纳米线阵列 耐蚀性 阳极氧化铝
• 年，卷（期）: 2014,（9）
• 所属期刊栏目: 论文
• 页码范围: 1-4
• 页数: 4页
• 分类号: TQ153.12
• 字数: 2157字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1001-3849.2014.09.001

摘要

采用控电位方法在阳极氧化铝模板中沉积了l为20μm、d为80 nm的钴纳米线阵列并考察其耐腐蚀性能.实验结果表明,Co纳米线阵列的晶型为密排六方(hcp)结构.阳极极化曲线与交流阻抗谱图显示,Co纳米线阵列电极随维生素C与尿酸溶液质量浓度增大,耐蚀性仅有小幅度降低,说明此种电极在较高质量浓度维生素C与尿酸溶液中能够长时间正常工作,是理想的生物传感器电极.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	卢海霞	华北水利水电大学机械学院	8	10	2.0	3.0
2	任建林	宁夏大学化学化工学院	9	14	2.0	3.0
3	晋晓勇	宁夏大学化学化工学院	14	30	3.0	4.0
4	宋振兴	天津科技大学理学院	7	28	4.0	5.0