纳米-微米复合图形化衬底及其在半导体异质外延上的应用

• 作者: 傅建新 叶辉 方旭 许坚 郭雄彬
• 来源期刊: 光学仪器
• 学科: 工学
• 关键词: 图形衬底 提拉法 SiO2纳米颗粒 光提取效率 外延生长
• 年，卷（期）: 2014,（1）
• 所属期刊栏目: 应用技术
• 页码范围: 20-24,35
• 页数: 6页
• 分类号: TN383.1
• 字数: 4096字
• 语种: 中文
• DOI: 10.3969/j.issn.1005-5630.2014.01.005

摘要

报道了一种新型的纳米-微米复合的蓝宝石图形化衬底,采用dip-coating的方法在微米级SiO2半球阵列表面静电自组装一层SiO2纳米球,形成了适合纳米范围选择性生长的区域.研究发现,该复合结构的制备过程与后续外延的工艺兼容.经封装后,在复合图形衬底上制造的LED芯片,其所测试的光通量比未添加SiO2纳米颗粒的微米图形衬底制造的LED光通量提高57％左右,而光输出功率则提高了17,8％.研究表明,在传统的微米图形衬底上加入SiO2纳米颗粒阵列不仅能够提供纳米级区域外延生长的模板,有效减少外延层的线位错密度,而且能够进一步粗化衬底表面,增加有源层光线逸出的几率,从而有效地提高了光提取效率.

作者信息

序号	姓名	单位	发文数	被引次数	H指数	G指数
1	叶辉	浙江大学现代光学仪器国家重点实验室	50	406	9.0	18.0
2	郭雄彬		8	23	3.0	4.0
3	傅建新		4	13	2.0	3.0
4	许坚	浙江大学现代光学仪器国家重点实验室	3	4	1.0	2.0
5	方旭	浙江大学现代光学仪器国家重点实验室	6	56	4.0	6.0